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課程名稱 |
光學量測系統原理設計
Design Principle of Optical Measurement System |
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開課學期 |
106-1 |
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授課對象 |
工學院 應用力學研究所 |
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授課教師 |
李世光 |
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課號 |
AM7173 |
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課程識別碼 |
543 M5360 |
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班次 |
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學分 |
2.0 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
星期三10,A(17:30~19:15) |
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上課地點 |
應111 |
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備註 |
總人數上限：98人 |
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Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1061AM7173_ |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
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課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
目前一般傳統課程皆著重於各種學理上之探討，缺乏對於系統整合上之概念，而本這門課程循序從原理端出發並與實際光電量測架構作交互性的探討，如：顯微鏡、各種干涉術及光學尺。希望學生能藉由了解現有光電量測系統設計概念，理解在建構系統過程中所需注意的參數及物理意義，進而建立起學生獨立思考、設計儀器之能力。本課程設計適合過去有一部分基礎光學背景的學生修習。 |
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課程目標 |
以系統整合的角度重新思考各種光學量測系統的學理參數，並從既有的光學量測系統來探討設計的思路和架構，訓練學生擁有可將過去所學的物理或光電基礎理論化為實際系統的應用能力，進而成為具有系統邏輯思考性的系統設計與開發者。 |
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課程要求 |
待補 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
待補 |
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參考書目 |
1. Fundamentals of Optics by F. A. Jenkins & H. E. White, published by McGraw Hill (4th edition)
2. Optics by Eugene Hecht, published by (2002 edition) Addison Wesley
3. Advanced Light Microscopy Vol. 1, 2 by M. Pluta
4. Additional selected materials
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評量方式
(僅供參考) |
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No. |
項目 |
百分比 |
說明 |
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1. |
報告 |
30% |
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2. |
期末考 |
50% |
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3. |
出席與上課 |
20% |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第1週 |
9/13 |
課程簡介、視光學及視科技 |
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第2週 |
9/20 |
幾何光學及像差 (I) |
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第3週 |
9/27 |
×第一組小組報告×
幾何光學及像差 (II)
調課至星期六(9/30)下午13:30~15:20 |
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第4週 |
10/04 |
中秋節國定放假 |
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第5週 |
10/11 |
相機原理與顯微鏡系統 |
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第6週 |
10/18 |
×第二組小組報告×
波動與偏極 |
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第7週 |
10/25 |
光學元件及背光模組實例探討(I) |
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第8週 |
11/01 |
延後至18:30開始上課
×第三組小組報告×
光學元件及背光模組實例探討(II)
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第9週 |
11/08 |
同調與干涉 (I)
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第10週 |
11/15 |
期中考週及校慶停課
(老師出國)
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第11週 |
11/22 |
同調與干涉 (II) |
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第12週 |
11/29 |
調課至12/1 下午 17：30上課
×第一組小組報告×
系統探討
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第13週 |
12/06 |
共軛焦顯微鏡、光學斷層掃描(OCT) |
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第14週 |
12/13 |
×第二組小組報告×
全像術 |
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第15週 |
12/20 |
空間相位與相位重建 |
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第16週 |
12/27 |
×第三組小組報告×
多波長干涉與白光干涉術 |
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第17週 |
1/03 |
疊紋法
系統探討：Advanced Vibrometer/Interferometer Device(AVID) |
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第18週 |
01/10 |
期末考試 |